因为我国在光刻机这一领域上的起步比较晚,制造高端光刻机的难度更大。所以目前我国最先进的光刻机也仅仅还处于7nm这一阶段,和全球顶级的光刻机相比较还有很大的差距。
光刻机别名为曝光机,光刻机是用来制造芯片的一款机器。因此,光刻机对于制造芯片有着非常重要的作用,麒麟芯片、AMD芯片等等都是通过光刻机制作出来的。光刻机的工作原理和硅晶片有一定的关联,因为硅晶片拥有一层光致的抗蚀剂,当紫外光照射到硅晶的表面时就会与之产生反应,这种反应被称作时光刻。当反应发生结束后,需要将没有被光致的抗蚀剂保护的部分进行蚀刻,然后再清洗光致的抗蚀剂。这些步骤需要非常精准处理,操作起来相当复杂。
想要制造出一台高端光刻机所需要的技术是非常严格的,这并不是一个国家就能够制造出来的。如今拥有最先进的光刻机技术的公司是ASML,之所以这个公司能够制造出来高端光刻机,就是因为它得到了整个欧洲和美国的支持。而中国目前还没有这般顶级的技术,所以很难制造出高端光刻机。
如今我国只能够制造出低端的光刻机,这其实已经是一个非常大的进步。至于高端光刻机,尽管如今还没有办法做到,但是我国也一直在研究,或许未来有机遇得到技术支持,从而制造出一台高端光刻机。
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